Fourniture gallium

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Fourniture gallium

Nom de l'information:	Fourniture gallium
Publié:	2012-05-15
Validité:	90
Caractéristiques:	99,99%
Quantité:	500.00
Description Prix:
Description détaillée du produit:	Gallium Gallium métal Cas n ° [7440-55-3], le MDL: - MFCD00134045 EINECS Beilstein: - 231-163-8 Formule Ga Poids moléculaire de 69,77 Alias ??Gallium Traits de produits liquides pour les métal gris-blanc, des semi-conducteurs produits pour la surface du métal bleu et blanc avec un éclat métallique et devenir liquide brillant à 30 ℃, refroidie à 0 ° C au lieu de guérir, est stable dans l'air sec, oxydation par voie humide dissous dans l'acide et un alcali, réaction à haute température avec une variété de métaux. Point de fusion: 29,8 ° C. Point d'ébullition: 2403 ° C Densité: 5,904 Note: La description ci-dessus est pour référence seulement, ne signifie pas que vous recevez le produit avec cette description correspond exactement à la norme des produits fabriqués, voir les normes de qualité. Les normes de qualité 99,999% des métaux de base: Apparence de l'Argent Apparence, de solide ou liquide Diffraction des rayons X X-Ray Diffraction conforme à la structure, Pureté Pureté ≥ 99,999% Basé sur les impuretés de métaux-traces ICP Analyse Major confirmé confirme composante de gallium Trace impuretés métalliques totale métallique C. 20ppm ≤ par ICP d'émission atomique 99,9999% des métaux de base: Apparence de l'Argent Apparence, de solide ou liquide Diffraction des rayons X X-Ray Diffraction conforme à la structure, Pureté Pureté ≥ 99,9999% Basé sur les impuretés de métaux-traces ICP Analyse Major confirmé confirme composante de gallium Trace impuretés métalliques totale métallique C. 1ppm ≤ par ICP d'émission atomique 99,99999% des métaux de base: Apparence de l'Argent Apparence, de solide ou liquide Diffraction des rayons X X-Ray Diffraction conforme à la structure, Pureté Pureté ≥ 99,99999% Basé sur les impuretés de métaux-traces ICP Analyse Major confirmé confirme composante de gallium Trace impuretés métalliques totale métallique C. 0,1 ppm ≤ par ICP d'émission atomique Stockage étanche sauver. L'objectif est la préparation de l'arséniure de gallium, le phosphure de gallium, l'antimoine, gallium matériaux semi-conducteurs composés, oxyde de gallium, alliage de haute pureté et d'autres produits, matières premières, peuvent également être utilisés comme éléments de germanium silicium, le dopage de semi-conducteurs. Gallium sera utilisé comme solvant, a été synthétisé avec succès trois yuan le siliciure SmNiSi3 et YNiSi3 sans incorporation de gallium dans sa structure, qui est un très prometteurs du gallium liquide large éventail de nouvelles méthodes de synthèse. No ONU 2803 Risque: R34- Sécurité: S26 - S45-S36/37/39- Danger: C -

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